半导体电子与精密制造
光刻与精密测量平台监测｜测点代表性：选址后怎样验证测点代表目标区域而非局部微环境？
围绕光刻与精密测量平台监测的测点代表性问题，说明观测对象、现场核对、数据留存与复测边界。
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半导体电子与精密制造
光刻与精密测量平台监测｜补传去重：通信恢复后数据乱序或重复，怎样核对终端到平台链路？
围绕光刻与精密测量平台监测的补传去重问题，说明观测对象、现场核对、数据留存与复测边界。
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